China promove máquinas de litografia de chips de produção nacional em meio à iniciativa de autossuficiência de semicondutores #ÚltimasNotícias

O governo chinês está promovendo duas máquinas de fabricação de chips de fabricação nacional que, segundo ele, alcançaram avanços significativos, à medida que o país se esforça para atingir a autossuficiência tecnológica em meio às sanções dos EUA.

As máquinas de litografia, que imprimem padrões de circuitos altamente complexos em pastilhas de silício, “alcançaram avanços tecnológicos significativos, possuem direitos de propriedade intelectual, mas ainda não tiveram bom desempenho no mercado”, de acordo com o Ministério da Indústria e Tecnologia da Informação (MIIT), que não revelou o nome das empresas por trás das duas máquinas.

Uma das máquinas de litografia ultravioleta profunda (DUV) opera em um comprimento de onda de 193 nanômetros (nm), com uma resolução abaixo de 65 nm e uma precisão de sobreposição abaixo de 8 nm, de acordo com uma nova lista de “principais equipamentos tecnológicos” publicada pelo MIIT no início desta semana. A outra máquina DUV tem um comprimento de onda de 248 nm, com resolução de 110 nm e precisão de sobreposição de 25 nm, de acordo com a lista.

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As duas máquinas ainda estão muito atrás das opções mais avançadas disponíveis no mercado. Uma das máquinas DUV mais avançadas da fabricante holandesa de equipamentos ASML Holding, por exemplo, pode operar em uma resolução abaixo de 38 nm com uma precisão de sobreposição de 1,3 nm.

As máquinas DUV também ficam atrás das máquinas ultravioleta extremas (EUV), que usam luz com comprimento de onda de apenas 13,5 nm – quase 14 vezes mais nítida que os 195 nm da DUV.

A China passou anos buscando autossuficiência tecnológica em semicondutores, mas seu progresso na produção de sistemas de litografia necessários para produzir em massa chips avançados de forma confiável continua lento.

Um engenheiro trabalha em um sistema de litografia ultravioleta profunda na ASML em Veldhoven, Holanda, em 16 de junho de 2023. Foto: Reuters alt=Um engenheiro trabalha em um sistema de litografia ultravioleta profunda na ASML em Veldhoven, Holanda, em 16 de junho de 2023. Foto: Reuters>

Quase todas as máquinas de litografia do país ainda vêm da ASML, que já cortou o acesso de clientes chineses às suas máquinas EUV de ponta e está enfrentando uma pressão cada vez maior dos EUA para reter suas máquinas DUV de clientes baseados na China.

A empresa estatal Shanghai Micro Electronics Equipment Group (SMEE), a melhor esperança do país para desenvolver seus próprios sistemas avançados de litografia, ainda está muito atrás de seus pares globais, como a ASML. A empresa, que foi adicionada a uma lista negra comercial pelos EUA em dezembro de 2022, precisaria de avanços em várias tecnologias e redes de fornecedores para superar as restrições, de acordo com especialistas.

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Mas a SMEE fez algum progresso apesar das sanções. A empresa registrou uma patente para “geradores de radiação EUV e equipamentos de litografia” em março do ano passado, de acordo com dados de registro corporativo publicados no início desta semana.

Este artigo foi publicado originalmente no South China Morning Post (SCMP), a voz mais autorizada a reportar sobre a China e a Ásia por mais de um século. Para mais histórias do SCMP, explore o aplicativo do SCMP ou visite o Facebook e o Twitter páginas. Copyright © 2024 South China Morning Post Publishers Ltd. Todos os direitos reservados.

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